中国顶尖光刻机要多久才能研发出来，至少10年吗？(中国光刻机现在多少纳米)

中国的光刻机现在达到多少纳米了?

光电所微细加工光学技术国家重点实验室研制出来的SP光刻机是世界上第一台单次成像达到22纳米的光刻机,结合多重曝光技术,可以用于制备10纳米以下的信息器件.这不仅是世界上光学光刻的一次重大变革,也将加快推进工业4.0,实现中国制造2025的美好愿景.

以中国现在的科技实力,造出像高通那样的商业化芯片需要多久?

设计是可以设计的出,比如华为海思就已经设计出来了,但是生产方面无法搞定,你就是让高通来他们也是找人代工的.而且这个不是有时间就能解决的问题,制造高制程芯片的高端光刻机是对中国禁售的,所以根本无法生产.如果要从头研发光刻机,那花费的时间得10年起了.更何况如果以其他厂商现有产品为竞争对象研发,等你的光刻机研发出来,那已经是过时很久的光刻机了.

中国研制芯片需要多少年

至少需要到2016年中国才能研制出芯片,从2018年升级到第二代芯片到2016年出第一代产品,至少需要两年.美国的情报机关不灵光.

既然asml不愿意卖光刻机给中国,那中国为什么不自己研发光刻机呢

能研发出来的话中国肯定会研发的 再看看别人怎么说的.

中国国产的光刻机最小制程能达到多少?

【中国国产的光刻机最小制程】中国目前国产的光刻机最小制程是90纳米.用90纳米的升级到65纳米不难.但是45纳米就是一个技术台阶了.45纳米的研发比90纳米的和65纳米难很多.如果解决了45纳米那个可以升级到32纳米不难.但是下一步升级到22纳米,不能直接45纳米升级到22纳米了.22纳米用到了很多新的技术

中国还要多久才可以自己研发出芯片

小子你不看新闻啊中国现在有自己的芯片啊“国芯”你没听说过吗? 好几年了,

中国向荷兰订贻的光刻机回来了吗?

没有回来,中国也制造不了10nm的光刻机

芯片领域重大突破,国产光刻机“横空出世”,台积电怎么保持地位?

国产光刻机目前有自己的突破,值得鼓励.目标是追赶荷兰的ASML所产的最新光刻机,能生产5nmEUV的芯片.台积电是代客生产芯片,其专长是生产芯片的工艺,研发更精益的生产程序和质量管理,目前正在攻克3nm的工艺前进.有更先进的光刻机对台积电是加分.这标题是在误导和动摇台积电的地位.

光刻机 是干什么用的 重要吗 能国产吗?

在现在的各种各样的电子产品中,芯片可以说是最重要的零件,而光刻机就是芯片制造的核心设备之一.按照用途可以分为好几种,用于生产芯片;用于封装;用于LED制造领域.用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板,国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口.

中国人是世界上最聪明的人,为啥研制不出,光刻机,蒸镀机,cpu,发动机,猛禽,幻影,阿帕奇先进技术

世界上好像也没有承认中国人是世界上最聪明的人吧!还有你说的这些东西并不是靠人种聪明就能研制出来的,这些东西都需要大量的技术储备才能研制出来的,打个比方,德国人够聪明了吧,但是德国一样造不出来CPU和五代战机,日本人够聪明了吧,你说的这些东西他们也造不出来.你看看日本搞的那个心神五代机,简直就是个笑话,现在无限期搁置了