电子级与刻蚀级氢氟酸的差别？(氢氟酸腐蚀性有多强)

氢氟酸的腐蚀性为什么很强?

原因:1.氟是最活泼的非金属,,它的原子半径很小,它的化和物常常有特殊的性质2.氢氟酸中的氟离子的半径很小,甚至小于氧离子,这导致它有很强的渗透性,致密的...

光刻和刻蚀有什么区别?

这两个词是半导体工艺中的重要步骤,需要配合剖面图讲解,最好自己找本半导体工艺的书看. “光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆(或者叫硅片)上盖上事先做好的光刻板,然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射.原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质,易于腐蚀. “刻蚀”是光刻后,用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉(正胶),晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形.然后用另一种腐蚀液对晶圆腐蚀,形成半导体器件及其电路. 建有流水线的商家有,海力士,华润等等.有兴趣可以网上的半导体技术交流论坛看看.

光刻 \湿刻\干法刻蚀有何不同

(权威网站哦) 在芯片制造的过程中,硅片表面图形的形成主要依靠光刻和刻蚀两大模块.众所周知,光刻的目的是在硅片表面形成所需的光刻胶图形,刻蚀则紧接其后精...

请问氢氟酸及氟化氢的物理、化学性质

氢氟酸 品名 氢氟酸; Hydrofluoric Acid; CAS:7664-39-3 理化性质 氢氟酸是氟化氢气体的水溶液,为无色透明至淡黄色冒烟液体.有刺激性气味.分子式 HF-H2O.相对密...

氢氟酸和碳酸酸性谁强?浓的氢氟酸酸性强么?

氢氟酸酸性较强 浓的氢氟酸酸性不是很强,常用来刻蚀玻璃

氢氟酸是弱酸还是强酸

HF是弱酸,简单的说是因为F对电子吸引力强(元素中最强的). 很容易理解HF是弱酸的原因,这是因为F有强烈的对电子的吸引力这样导致F-上的电子云密度过大使得H...

5%的氢氟酸和55%的氢氟酸有什么区别?

只是浓度不同

给/吸电子基团与活化/钝化基团的区别

绝大多是时候就是这样 但是羟基就不是,羟基虽然是吸电子基,但是它的给电子共扼更强,所以是活化基团,邻对位定位基 相似的还有很多,要自己总结

钛与氢氟酸反应

钛因为能与氟离子形成配合物( F-有四个孤电子对,可以与其他原子的空轨道形成配位键,中学阶段可知氨气、氟离子是良好的配体),方程式中学阶段不需记忆,到大学...

电子LR41和AG3的区别

没有区别,都是一样的.LR41: 标准电压1.5V,终止电压0.9V.用1KΩ的放电电阻放电,可持续放电670小时.工作容量28mAh,重量0.61g.负载电阻22K.同一产品不同称呼: AG3;L736;LR41;384;RW37;V384.